被人卡脖子的滋味不好受,所以中国制造必须要崛起,然而这个过程却是无比艰难。困难不仅来自技术,更重要的是来自美国的打压。

特朗普和美国商务部长罗斯都不止一次地表示,最不能接受的就是美国在高新技术产业上被中国反超。罗斯在谈判的时候公开说:中国制造2025实在太可怕了。

美国4月份出炉的301调查报告显示,美国在高端技术制造业全球占有率是29%,中国则紧随其后占了27%。这就是今年贸易战为啥突然爆发以及孟晚舟被扣的根本原因。

最近罗斯在参加Fox访谈节目的时候说:叫停中国制造2025计划,必须成功。因为不但美国需要,还有中国内部力量的帮助。

中国制造艰难的突破!国产刻蚀机入选全球首条5纳米生产线-神探007

罗斯的讲话提醒我们,中国制造2025计划的大方向是对的,改个名字倒无所谓,但必须坚定步伐,继续向产业链的顶端爬升。

 

另外他的讲话还提醒我们,我们最大的敌人不在太平洋对岸,而在我们内部。一定不能被内部的投降派、去工业派、造不如买派所迷惑,必须放弃幻想,战斗到底。

因为,如果产业不升级,随着平均收入的增加,以及人口红利的消失,中低端产业我们不再具有劳动力成本优势,那么必然向外转移,最终导致产业空心化,跌入中等收入陷阱。

经常有朋友问我,什么领域我们还被卡着脖子?我可能列举的不全,欢迎大家补充,我们经常提到的有集成电路、大飞机制造、光刻机、新药研制、高精度仪器、操作系统等。

而在集成电路这一块,我们长期受心脏病的折磨,中韩关系刚有点风吹草动,存储芯片就涨了好几倍。

中兴虽然自身有很多专利,但是部分芯片、部分专利、操作系统、芯片设计的EDA工具掌握在美国手里,美国一说制裁,中兴立马就得停产。最后不得不被罚了17亿美元。

福建晋华,本来是国产存储芯片敢死队企业,结果由于遭受美国制裁,量产计划不得不推迟。而美国开出的罚单,可能超过200亿美元,简直是要没收两个航母编队的节奏!

芯片生产为什么这么难?其中有一条原因就是,这个产业链延伸的太长了,连美国只能做到其中的三分之一,而其他早已分给了盟友们。

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比如光刻机就分给了荷兰,荷兰是美国的北约盟友,问题是ASML的三大股东却是英特尔、三星和台积电,享有优先提货权。而且ASML现在产能已然跟不上了,中国的订单只能往后拖。

中国目前能投入芯片加工的光刻机生产厂家,最好的是上海微电子,他们的90纳米光刻机已经量产,而28纳米的光刻机正在紧张攻克中,预计2020年拿出样机。

11月30日,也就是G2O开始的前一天,国家重大科研装备项目——超分辨光刻装备通过了验收,光刻分辨力可达22纳米,结合双重曝光技术,可用于制造10纳米级别的芯片。

按照成都光电所的官宣,形成了一条全新的纳米光学光刻工艺路线,具有完全自主知识产权。光电所还展示了用国产SP光刻机加工的4英寸的光刻样品。

这个项目曾经获得了国家技术发明一等奖(2016年)。虽然这个光刻机目前还不能加工普通芯片,只能用于特殊领域芯片,但已经是非常重大的原理性突破了。

光刻机的工作流程,以前介绍过。用EDA软件把电路设计好,然后再把电路图弄到晶圆片上。

这个环节就需要用光刻机了,原理就像胶片,晶圆片上覆盖了一层光敏物质,光线照到的地方发生了反应。

中国制造艰难的突破!国产刻蚀机入选全球首条5纳米生产线-神探007
中国制造艰难的突破!国产刻蚀机入选全球首条5纳米生产线-神探007

然后用特种溶剂溶解掉被照射的部分,就把电路留在了晶圆片上。这时候光就相当于一把激光刀,而这台机器就叫做光刻机。

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随着集成电路集成度越来越高,对光刻机的要求越来越苛刻,光刻机也被誉为半导体制造业皇冠上的明珠。

光刻机之后,就该蚀刻机上场了,刻蚀机也是芯片生产过程中最重要的设备之一。重要不重要,你看美国对中国限制不限制就知道了,刻蚀机也曾经是发达国家出口管制产品之一。

但随着我国技术突破,这种高端装备在出口管制名单上消失了。正所谓“只要中国攻克的技术,都不是核心技术”,因此重要性上略逊光刻机一头。

从价格上也可以看出,一台最先进的ASML光刻机,价值超过一亿美元,跟一架大飞机差不多。而一台先进的刻蚀机只要500万美元左右。

刻蚀机用来按光刻机刻出的电路结构,在硅片上进行微观雕刻,刻出沟槽或接触孔的设备。其对加工精度的要求非常高,加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。

打个比方,光刻机就相当于把书法家写好的字拓印在石碑上,然后刻蚀机就相当于雕刻家用刻刀把电路刻上去。

值得一提的是,中国在刻蚀机方面,技术不但取得了突破,跟美国日本一起,成为第一梯队,某些性能甚至已经领先世界。

某市场研究机构12月发布的2018年度客户满意度调查年终大盘点中,中微在全球薄膜沉积设备供应商排名中荣登榜首,在刻蚀和清洗设备供应商排名中位列第二,在台湾晶圆制造设备供应商排名中也仅次于荷兰半导体设备巨头ASML。

前几天又传来好消息,中微半导体设备有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机最近经台积电验证,性能优良,将用于全球首条5纳米制程生产线。

不过,这还不值得骄傲,因为刻蚀机我们只是进入第一梯队了,还没有形成垄断,还不能卡他们脖子,还不能报中兴之仇。

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这里荣蛋总嘚瑟一下,中微半导体的创始人叫尹志尧,是我的校友。1968年,尹志尧从中国科学技术大学化学物理系毕业,1980年前往加州大学洛杉矶分校留学。

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2004年,尹志尧博士与杜志游博士、倪图强博士、麦仕义博士等40多位半导体设备专家毅然回国,创办了中微公司。

这里我要表达一下对邓小平的钦佩。当年选派留学生,教育部门的很多人都顾虑重重,怕他们一去不回。

邓小平的打消他们了顾虑。邓小平说:你们不要怕跑,就是跑了十分之一,还有十分之九。如果派一万人,跑了一千,回来的还有九千人。你们要大量地派,不要怕。

这也许就是“大面积撒网、重点捕捞”在科学上的应用。三十多年播下的种子,现在终于硕果累累了!

这也反映出中国的伟大复兴,是几代中国人的心愿,凝聚了几代人的心血,没有谁能阻挡得住。

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